Pinna mikro-topograafia mikrohäirete tuvastamise põhimõte ja häiremikroskoobi arengustaatus
(1) Muudatused kasutusalas Kõige varasem nõudlus pinnamikroskoopilise topograafia tuvastamise järele väljendub määrimise, hõõrdumise ja kulumise hoolikas kontrollis masinatööstuses. Paljude piirialade kiire arenguga on selle nõudluse ulatus laienenud röntgenoptikale, optiliste ketaste teabetööstusele, mikroelektroonikale, suure kiirusega laserfüüsikale ja paljudele teistele valdkondadele;
(2) Enne instrumendi koostise muutumist kasutas pinna mikromorfoloogia tester pliiatsi tüüpi, mis oli mehaanilist ja elektrilist tüüpi; kuna paljudes valdkondades esitati kõrge täpsusega mittepurustavate katsete nõudeid, võeti kasutusele uued seadmed ja uued põhimõtted. Seade on optiline ja mehaaniline, elektriline, kombineeritud arvutus;
(3) Uute põhimõtete pidev esilekerkimine väljendub peamiselt:
Uute interferomeetriliste vormide tekkimine tähendab arengut tuntud Fizeau, Linniku ja Michelsoni vormidest uue Mirau tüübini. Seda tüüpi interferomeetril on kompaktne struktuur ja hea häiretevastane jõudlus. See on peamine interferomeetri vorm, mis sobib uue testimispõhimõttega VSI ja FDA. Autor usub, et Mirau mikroskoobi väljatöötamisel tuleb arvestada kahe järgmise punktiga: (1) Teatud töökauguse tagamiseks tuleb see spetsiaalselt konstrueerida; (2) Tala jaoturi, kompensatsiooniplaadi ja standardplaadi paksus ei tohiks olla suur, üldiselt μm või väiksem kui μm. Seetõttu on nende materjali valiku ja katmise nõuded kõrged. On ka teisi Dysoni ja Normarski vorme, millel on ühine optiline tee. Võrreldes teiste vormidega, nagu Dyson ja Normarski, on jagatud optilise tee interferentsmikroskoobi täpsust lihtne parandada ülitäpse standardpinna kasutamise tõttu, kuid sellel on ranged nõuded keskkonnatingimustele (nt temperatuur, vibratsioon jne). .) ja seda kasutatakse tavaliselt laborites või standardmetroloogia osakonnas; Tavalise optilise tee interferentsi mikroskoop ei ole tundlik väliste häirete suhtes, nagu mehaaniline vibratsioon ja temperatuurimuutused, ning sobib veebipõhiseks kontrollimiseks töökojas.
Lisaks uue faasinihke häirete (PSI) põhimõtte kasutuselevõtule häirete testimise valdkonnas on esile kerkinud uued testimispõhimõtted, samuti uuendatud sagedusdomeeni analüüsi (FDA) põhimõtted ja vertikaalse skaneerimise häirete (VSI) põhimõtted. . Võrreldes faasinihke häirete põhimõttega võivad FDA ja VSI kõrvaldada faasihüpete ebaselgused ning sobivad soonte ja astmete testimisnõuete jaoks mikroelektroonika ja optiliste plaatide teabetööstuses; Võrreldes FDA ja VSI-ga on esimesel faasimõõtmismeetodil andmete kasutusmäär kõrge, kõrge täpsusega, see võib kõrvaldada interferomeetri optilise süsteemi kromaatilise aberratsiooni jne, viimasel on lisaks madalale andmete kasutamisele järgmised puudused: (1) Kuna kontrast on juhusliku müraga kergesti mõjutatav, on juhuslik viga mõnikord suur:; (2 ) kontrastsus on seotud valge valgusallika spektraalse intensiivsuse jaotusega, mistõttu on valge valgusallika spektraalse intensiivsuse stabiilsuse nõuded suhteliselt kõrged.
(4) Valgusallika muutmisel võetakse kasutusele valge valguse interferentsi põhimõte, mis põhineb võrdsel optilisel teel. Võrreldes laservalgusallikaga võib laevavalguse valgusallikas kõrvaldada häirete äärealadel esineva müra ja fokuseerida täpselt mõõdetud pinnale ning lahendada hägusate faasiüleminekute probleemi. See sobib mikro-optika ja mikroelektroonika jaoks, millel on suur mõõteulatus ja suurema täpsusega testimisnõuded.
